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米国はASMLの最重要半導体装置が中国にある可能性を指摘、ASMLは否定
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Robert Hayes
4 週間前7分で読める
ワシントンと北京の間で、静かだが重大な外交上の小競り合いが繰り広げられており、オランダを拠点とする半導体製造装置大手ASMLがその渦中に巻き込まれている。米国は、ASMLの最先端リソグラフィー装置（最先端半導体の製造に不可欠なもの）が中国に流入した可能性について懸念を表明しており、ASMLはこの主張を強く否定している。この論争は、世界の技術情勢、特に重要な半導体分野を特徴づける、激しい地政学的圧力と複雑な商業的現実を浮き彫りにしている。米国の懸念の核心は、中国が高度なチップ製造能力にアクセスする可能性にあり、ワシントンはこれを国家安全保障上の脅威と見なしている。米国は数年間、中国の高度な半導体技術へのアクセスを制限するための協調的なキャンペーンを組織しており、それが軍事技術の進歩や人工知能に応用されることを懸念している。この戦略には、オランダや日本のような同盟国に対し、自国の有力企業、特に極端紫外線（EUV）リソグラフィー装置の唯一の製造元であり、高度な深紫外線（DUV）システムの主要生産者であるASMLに輸出規制を課すよう圧力をかけることが含まれている。これらの装置は、現代のマイクロチップを形成するシリコンウェハーに複雑なパターンをエッチングするために不可欠であり、DUV技術は最先端ではないものの、多くの高度なプロセスにとって依然として極めて重要である。計り知れない戦略的重要性を持つ企業であるASMLは、最大の市場からの要求と、国際外交および国家安全保障上の要請との間でバランスを取りながら、不安定な立場に置かれている。同社の否定は強力な商業的論理に基づいている。中国の顧客に不法に供給するために輸出ライセンスを危険にさらすことは、壊滅的な結果を招くことになるだろう。そのような動きは、ASMLの主要な欧米市場へのアクセスを危うくし、各国政府からの厳しい罰則を招き、信頼できるサプライヤーとしての評判を回復不能なまでに傷つけるだろう。オランダ政府は、米国の圧力の下、すでにASMLによる最先端EUV装置の中国への輸出を制限しており、一部のDUVシステムに対する管理も段階的に強化している。現在の論争は、どのASML装置が中国にあるとされるかについての具体的な詳細を欠いているものの、技術的優位性を巡る世界の列強間の終わりのないいたちごっこを浮き彫りにしている。もし米国の情報機関が不正な移転を示唆する情報を実際に保有しているとすれば、それは中国企業が用いる巧妙な回避戦術を示唆するか、あるいは既存の装置の実際の能力や年式に関する誤解である可能性もある。ASMLの対応は、中国に販売されたいかなる装置も、国際法および既存の合意の範囲内で、オランダ政府によって発行された輸出管理規制とライセンスに厳格に準拠していることを強調している。同社は、これら複雑で頻繁に更新される規則への遵守を確実にするため、厳格な社内コンプライアンスプロトコルを維持している。この対立がもたらす広範な影響は、単一の企業や特定の装置にとどまらない。それは、国家の自給自足と戦略的デカップリングへの願望によって推進される、グローバルなテクノロジーサプライチェーンのより深い分断を反映している。中国は、西側技術への依存を減らすため、国内の研究開発と製造に莫大な資源を投入し、自国の半導体能力の開発努力を加速させている。しかし、この取り組みの成功は、ASMLが製造するような重要な装置へのアクセスに大きく依存しており、北京の技術的野心にとって永続的なチョークポイントを生み出している。したがって、米国の立場は、この自給自足を遅らせるか、完全に阻止することを目指しており、自国の技術的優位性と同盟国の競争優位性を維持しようとしている。ワシントンとハーグの政策立案者にとって、この状況はデリケートな課題を突きつけている。米国は主要な経済パートナーを遠ざけることなく技術封じ込め戦略を執行しようとし、一方オランダはASMLとの経済的利益と同盟国としてのコミットメントとの間で舵取りをしなければならない。ASMLの事業に対する継続的な精査と、このような紛争の公表は、高度な計算能力を巡る競争に関わる高い賭けを浮き彫りにしている。この競争は、今後何年にもわたり地政学的な同盟関係と世界の経済軌道を形成し続けることは間違いないだろう。
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